無(wú)錫市奧宏環(huán)保設(shè)備有限公司

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[供應(yīng)]黑鋅機(jī)械手鈍化設(shè)備 生產(chǎn)線 流水線 電鍍線 奧宏環(huán)保
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  • 產(chǎn)品產(chǎn)地:江蘇無(wú)錫
  • 產(chǎn)品品牌:奧宏環(huán)保
  • 包裝規(guī)格:黑鋅機(jī)械手鈍化設(shè)備
  • 產(chǎn)品數(shù)量:10
  • 計(jì)量單位:套
  • 產(chǎn)品單價(jià):100000
  • 更新日期:2019-05-24 09:34:14
  • 有效期至:2020-05-23
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黑鋅機(jī)械手鈍化設(shè)備 生產(chǎn)線 流水線 電鍍線 奧宏環(huán)保 詳細(xì)信息

全自動(dòng)機(jī)械手鈍化設(shè)備


基本含義:  
  
鈍化,金屬由于介質(zhì)的作用生成的腐蝕產(chǎn)物如果具有致密的結(jié)構(gòu),形成了一層薄膜(往往是看不見的),緊密覆蓋在金屬的表面,則改變了金屬的表面狀態(tài),使金屬的電極電位大大向正方向躍變,而成為耐蝕的鈍態(tài)。如Fe→Fe時(shí)標(biāo)準(zhǔn)電位為-0.44V,鈍化后躍變到+0.5~1V,而顯示出耐腐蝕的貴金屬性能,這層薄膜就叫鈍化膜。


金屬的鈍化也可能是自發(fā)過(guò)程(如在金屬的表面生成一層難溶解的化合物,即氧化物膜)。在工業(yè)上是用鈍化劑(主要是氧化劑)對(duì)金屬進(jìn)行鈍化處理,形成一層保護(hù)膜。


常見例子:冷濃liu酸、冷濃xiao酸與鐵、鋁均可發(fā)生鈍化。


腐蝕定義:


腐蝕是一種電化學(xué)變化過(guò)程,未經(jīng)處理的金屬表面存在少量電離子,這些電離子會(huì)由高電位區(qū)(陰極)向低電位區(qū)(陽(yáng)極)移動(dòng),因此產(chǎn)生電流。在此電流的作用下會(huì)加速對(duì)金屬破壞性的攻擊而在金屬電位薄弱的部位產(chǎn)生腐蝕,通俗的說(shuō)就是生銹。




鈍化原理:


其鈍化的機(jī)理可用薄膜理論來(lái)解釋,即認(rèn)為鈍化是由于金屬與氧化性物質(zhì)作用,作用時(shí)在金屬表面生成一種非常薄的、致密的、覆蓋性能良好的、牢固地吸附在金屬表面上的鈍化膜。這層膜成獨(dú)立相存在,通常是氧化金屬的化合物。它起著把金屬與腐蝕介質(zhì)完全隔開的作用,防止金屬與腐蝕介質(zhì)接觸,從而使金屬基本停止溶解形成鈍態(tài)達(dá)到防腐蝕的作用。
一種活性金屬或合金,其中化學(xué)活性大大降低,而成為貴金屬狀態(tài)的現(xiàn)象,叫鈍化。金屬由于介質(zhì)的作用生成的腐蝕產(chǎn)物如果具有致密的結(jié)構(gòu),形成了一層薄膜(往往是看不見的),緊密覆蓋在金屬的表面,則改變了金屬的表面狀態(tài),使金屬的電極電位大大向正方向躍變,而成為耐蝕的鈍態(tài)。


與防銹油:


鈍化與防銹油主要的區(qū)別是生成產(chǎn)物不一樣防銹油是利用油膜封閉金屬表面的氣孔達(dá)到隔離與氧氣接觸而有效防止生銹的作用,實(shí)際上沒(méi)有發(fā)生什么反應(yīng)。油膜比較容易隨著生產(chǎn)的進(jìn)行而被清除、破壞的失效而鈍化是利用鈍化液中的氧化性物質(zhì)與金屬產(chǎn)生氧化還原反應(yīng),促使在金屬表面生成一層金屬的氧化物、達(dá)到有效保護(hù)金屬的目的。這一過(guò)程屬于化學(xué)反應(yīng)。產(chǎn)生的鈍化膜致密、完整不易被破壞。


鈍化優(yōu)點(diǎn):
1)與傳統(tǒng)的物理封閉法相比,鈍化處理后具有不增加工件厚度和改變顏色的特點(diǎn)、提高了產(chǎn)品的精密度和附加值,使操作更方便


2)由于鈍化的過(guò)程屬于無(wú)反應(yīng)狀態(tài)進(jìn)行,鈍化劑可反復(fù)添加使用,因此壽命更長(zhǎng)、成本更經(jīng)濟(jì)。


3)鈍化促使金屬表面形成的氧分子結(jié)構(gòu)鈍化膜、膜層致密、性能穩(wěn)定,并且在空氣中同時(shí)具有自行修復(fù)作用,因此與傳統(tǒng)的涂防銹油的方法相比,鈍化形成的鈍化膜更穩(wěn)定、更具耐蝕性。


在氧化層中大部分的電荷效應(yīng)是直接或間接地同熱氧化的工藝過(guò)程有關(guān)的。在800-1250~C的溫度范圍內(nèi),用干氧、濕氧或水汽進(jìn)行的熱氧化過(guò)程有三個(gè)持續(xù)的階段,首先是環(huán)境氣氛中的氧進(jìn)入到已生成的氧化層中,然后氧通過(guò)2氧化硅向內(nèi)部擴(kuò)散,當(dāng)它到達(dá)Si02-Si界面時(shí)就同硅發(fā)生反應(yīng),形成新的2氧化硅。這樣不斷發(fā)生著氧的進(jìn)入-擴(kuò)散-反應(yīng)過(guò)程,使靠近界面的硅不斷轉(zhuǎn)化為2氧化硅,氧化層就以一定的速率向硅片內(nèi)部生長(zhǎng)。


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