深圳市眾誠達(dá)應(yīng)用材料科技有限公司的合金平面靶材有著先進(jìn)的配方工藝,采用真空熔煉、粉末冶金技術(shù),生產(chǎn)的合金靶材系列具有合金成分均勻,致密性好,含氧量低,純度高等特點(diǎn),可根據(jù)客戶要求加工成不同尺寸、形狀、厚度的產(chǎn)品,靶材性能優(yōu)異。相對密度100%,純度> 99.95%,該合金平面靶材主要應(yīng)用于薄膜太陽能工業(yè)、液晶顯示、有機(jī)發(fā)光二極管、光學(xué)和低輻射玻璃等。
    深圳市眾誠達(dá)應(yīng)用材料科技有限公司主要生產(chǎn)經(jīng)營磁控濺射鍍膜靶材和靶材綁定。濺射靶材的要求較傳統(tǒng)材料行業(yè)高,一般要求如,尺寸、平整度、純度、各項(xiàng)雜質(zhì)含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸與缺陷控制;較高要求或特殊要求包含:表面粗糙度、電阻值、晶粒尺寸均勻性、成份與組織均勻性、異物(氧化物)含量與尺寸、導(dǎo)磁率、超高密度與超細(xì)晶粒等等。磁控濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜方式,就是用電子槍系統(tǒng)把電子發(fā)射并聚焦在被鍍的材料上,使其被濺射出來的原子遵循動(dòng)量轉(zhuǎn)換原理以較高的動(dòng)能脫離材料飛向基片淀積成膜。這種被鍍的材料就叫濺射靶材。 濺射靶材有金屬,合金,陶瓷,硼化物等。
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