工藝特點(diǎn):
RC-M92半光亮鎳工藝是專門為防腐蝕性能要求高的電鍍件而設(shè)計(jì),是雙層鎳或多層鎳系統(tǒng)電鍍中的半光亮鎳底層。
鍍層含硫量低于0.003%,半光亮鎳層與光亮鎳層電位差達(dá)120-145mv,耐蝕性極好
鍍層柔軟性好,覆蓋能力強(qiáng),填平效果極佳
光亮劑濃度高,消耗量小
不含香豆素,分解產(chǎn)物少,鍍液穩(wěn)定,容易維護(hù),降低了廢水處理和活性碳處理的成本。
鍍液配制方法
在預(yù)備槽中注入三分之二的純水,加熱至60-70℃ 加入所需的硫酸鎳及氯化鎳,攪拌使其完全溶解.在另一個(gè)容器中,將所需的硼酸用水加熱溶解后,倒入上述溶液中.
加入2毫升/升30%的雙氧水(稀釋后再加入),并攪拌1小時(shí),再加溫至65-70℃,攪拌2小時(shí),以除去多余的雙氧水.
在55-60℃時(shí),加入2-3克/升的活性碳,攪拌1小時(shí).保溫靜置4-8小時(shí)后,再過濾鍍液,并加入純水到所需的刻度,用稀硫酸或4%的氫氧化鈉(化學(xué)純)溶液,調(diào)整PH值至4.0左右.
用波浪狀的假陰極,以低電流密度(0.2-0.5安培/平方分米)連續(xù)電解12小時(shí)以上,或直至低電位顏色由暗黑色變成淺灰色.
最后加入計(jì)算量的各種添加劑,便可以開始電鍍.
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