昆明直銷定制2000×3000大理石平臺平板 花崗巖大理石校正平臺廠家
昆明大理石平臺\大理石校正平臺在自然溫度下測量注意事項:
1、大理石平臺\大理石校正平臺工作面平面度從3μm—15μm不等,一般用于實驗室中,工作溫度20℃±2℃,但是由于某些因素也常用于自然溫度下的制造車間中。
2、大理石平臺\大理石校正平臺的安裝位置應(yīng)避免陽光照射,遠(yuǎn)離熱源及振動的環(huán)境。
3、由于大理石平臺\大理石校正平臺與被測工件具有不同的熱膨脹系數(shù),在溫度變化時,它們通常以不同的比例伸長或收縮,如果相信了測量結(jié)果,隨著時間的漂移,卻得到了相對尺寸相差很大的零件。所以測量時應(yīng)在不同時差溫度下反復(fù)測量幾次,比較一下測量結(jié)果。
4、在幾個星期內(nèi)只要反復(fù)測量并記錄工件的同一個參數(shù),很容易確定溫度變化引起的測量精度變化,使用溫度計還可以記錄每一次測量時的環(huán)境溫度,比較這些測量結(jié)果,就會看出它們的差異。
大理石平臺\大理石校正平臺的形成:
1、大理石平臺\大理石校正平臺采用優(yōu)質(zhì)的“濟(jì)南青”天然花崗石料經(jīng)機械加工,手工精研而成,大理石平臺\大理石校正平臺黑色光澤、結(jié)構(gòu)精密、質(zhì)地均勻、穩(wěn)定性好。
2、大理石平臺\大理石校正平臺強度大、硬度高,并具有不生銹耐酸堿、不磁化、不變型、耐磨性好。
3、大理石平臺\大理石校正平臺能在重負(fù)荷及一般溫度下保持穩(wěn)定,由于大理石平臺\大理石校正平臺得天獨厚的特性,而使鑄鐵平板相形見拙。
4、大理石平臺取材於地下優(yōu)質(zhì)的巖石層,經(jīng)過億萬年自然時效,形態(tài)極為穩(wěn)定,不用擔(dān)心因常規(guī)的溫差而發(fā)生變形。
5、大理石平臺\大理石校正平臺經(jīng)嚴(yán)格物理試驗和選擇的花崗石料,結(jié)晶細(xì)密,質(zhì)地堅硬,抗壓強度達(dá)2290-3750公斤/平方厘米,硬度達(dá)莫氏硬度6-7級。
6、極耐磨損、耐酸、耐堿,有很高的耐腐蝕性,永遠(yuǎn)不會生銹,大理石平臺\大理石校正平臺非金屬材料,絕無磁性反應(yīng),也不會出現(xiàn)塑性變形。
7、大理石平臺\大理石校正平臺硬度比鑄鐵平板高2-3倍(相當(dāng)於HRC> 51),因此大理石平臺\大理石校正平臺精度保持性好。
8、1000mm×1000mm‘00’級大理石平臺,擱置一年后,仍能保持00’級精度。
大理石平臺\大理石校正平臺在使用中巖石工具即使遭重物磕碰,至多掉幾粒石碴而已,大理石平臺\大理石校正平臺其優(yōu)于優(yōu)質(zhì)鑄鐵和鋼材制作的精密測量基準(zhǔn)零件,可以獲得高而穩(wěn)定的精度。我公司生產(chǎn)的1000×630mm的‘00’級大理石平臺\大理石校正平臺,擱放一年后,仍能保持原精度不變。
大理石平臺\大理石校正平臺比重:2970-3070kg/㎡ 抗壓強度:245-254N/m 線膨脹系數(shù):4.61×10-6/℃,吸水率:﹤0.13% 肖氏硬度:Hs70以上
大理石平臺\大理石校正平臺精度失準(zhǔn)恢復(fù)辦法:
大理石平臺\大理石校正平臺在不斷頻繁的使用中,時間久之后精度會逐步退化,使得大理石平臺\大理石校正平臺的精度失準(zhǔn)。這個常見的問題解決最佳的方法就是返廠從新精研精度修理。修理后的大理石平臺\大理石校正平臺精度,就跟新產(chǎn)品精度穩(wěn)定性耐磨性是一樣的。大理石平臺\大理石校正平臺精度修理的幾個方面是:
1.先將需要修理的大理石平臺粗磨,粗磨的用意是將大理石平臺\大理石校正平臺的厚度和平度粗磨到標(biāo)準(zhǔn)范圍。
2.將粗磨后的大理石平臺\大理石校正平臺,進(jìn)行二次半細(xì)磨,半細(xì)磨的是去掉比較深的劃痕后能夠到達(dá)規(guī)范的平度。
3.細(xì)磨大理石平臺\大理石校正平臺的工作板面,這樣做是將半細(xì)磨的板面平度更進(jìn)一步的精度化到達(dá)有精度的基礎(chǔ)上。
4.將細(xì)磨帶有精度的大理石平臺\大理石校正平臺進(jìn)行人工手工精磨,精磨是將帶有精度的大理石平臺\大理石校正平臺,能夠進(jìn)一步精研精度直接到達(dá)需求精度為。
5.將精研細(xì)磨后到達(dá)規(guī)范精度的大理石平臺\大理石校正平臺進(jìn)行拋光,拋光后的大理石平臺\大理石校正平臺表面光滑耐磨性高、平面粗糙度數(shù)值小,保證了精度。
更多大理石平臺\大理石校正平臺的詳細(xì)說明,圖片參考:http://www.btdgjx.com/hgslj/72.html
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