特點
無維護(hù)自動烘干技術(shù)
微處理器控制
連續(xù)或間歇操作
LCD 顯示
流量顯示
可視操作狀態(tài)指示燈
RS485 和 RS232 接口(可選)
兩個或多個氫氣發(fā)生器級聯(lián) (可選)
概要
NM-H2 氫純度發(fā)生器利用最新的隔膜技術(shù)作為純氫電解產(chǎn)品。包括獨一無二的無維護(hù)自動烘干技術(shù)。作為點火工具的燃料氣;各種載氣,象GC(氣相色譜)和GCMS(質(zhì)譜),或離子室中的純氫源和其它隔離環(huán)境。NM-H2 系列氫純度發(fā)生器用于氣體分析儀較理想的操作。
技術(shù)
電解膜是制氫技術(shù)中首選的技術(shù),由于它潔凈、維護(hù)量少和為維護(hù)操作不需要存貯化學(xué)藥品.僅用純凈或者蒸餾水或者脫離子水, 要求提供長期無故障操作。NM-H2 和其它的氫氣發(fā)生器比較,其它發(fā)生器是用腐蝕性溶液制氫,所以NM-H2利用特殊電解膜制氫是比較有利的,腐蝕性溶液中的雜質(zhì)會影響氫氣純度。 并且隨著時間的推移能引起系統(tǒng)退化。隔膜分離也是意味著減少消耗,因為日常的維護(hù)意思是“只需要加水”。不需要存貯腐蝕性的混合物/溶液,或消耗電池執(zhí)行清潔程序。
特點
低含量(<40 ml) 氫對 NM-H2 安全操作受到限制的,自動關(guān)斷程序作為備用放置在這個單元,如果內(nèi)部錯誤及選擇報警發(fā)生時,通知用戶,只要操作條件不同于設(shè)定。
技術(shù)規(guī)格
電解池 隔膜型
H2 純度 > 99.9999%
輸出壓力 1-155 psig,0,1-10,0 bar可調(diào)
H2 流速 根據(jù)量程可調(diào)
NM-H100 10 - 100 ml/min
NM-H160 16 - 160 ml/min
NM-H250 25 - 250 ml/min
NM-H500 50 - 500 ml/min
用戶界面  
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